Моделирование и оптимизация функции качества технологических процессов формирования функциональных покрытий и пленок
Рассмотрено моделирование процессов формирования тонких пленок в установках магнетронного рас-пыления. Моделирование основано на вероятностном подходе и интеграции точечных испарителей. При моделировании учитывались относительное распределение толщины тонких пленок и эффективность массопереноса частиц. Выполнено сравнение результатов компьютерного моделирования и эксперимента; решена обратная задача оптимизации процесса с использованием введенной функции качества, учитывающей равномерность синтезируемых тонких пленок, расход материалов и геометрию области распыления.
Авторы: В. А. Тупик, Чу Чонг Шы, И. Стеблевска
Направление: Проектирование и технология радиоэлектронных средств
Ключевые слова: Тонкие пленки, магнетронное распыление, компьютерное моделирование, метод Монте-Карло, метод молекулярной динамики, функция качества покрытия
Открыть полный текст статьи